【环球网科技综合报道】10月16日，据Ked Global报道，三星电子宣布了一项重大投资计划，将投资约1.1万亿韩元引进两台最新的高端双级极紫外（EUV）光刻机。此举标志着该公司在下一代半导体芯片量产方面迈出了重要一步。据业内人士透露，三星电子此前只在京畿道园区部署了一台高EUV设备，而且主要用于研发。此次引进的两台设备，专门用于“产品产品生产”。这是该公司首次将如此先进的设备应用于量产场景。按照计划，三星电子将在今年完成第一台设备的引进，明年上半年完成第二台设备的引进，逐步完善量产设备的布局。t。 三星此次计划推出的设备是Twin Scan Exe: 5200B，它是0.55孔径数（NA）高强度紫外光刻系统，也是Twinscan Exe: 5000的升级版本。在技术性能方面，它不仅提高了对位精度，还显着提高了生产效率。它被业界公认为生产下一代半导体芯片和高性能DRAM的关键必备工具。与之前的NXE系统相比，Twin Scan Exe：5200B具有显着的优势。其成像对比度提高了40%，分辨率可达8纳米，使得芯片制造商能够在单次曝光中实现比twinscan NXE系统精细1.7倍的电路蚀刻。这一技术突破可将晶体管密度提升至原来的2.9倍，同时降低量产工艺的复杂性，有效快速提升客户面料晶圆产量，为半导体产业技术升级提供有力支撑。 （春俊）